日本昭和真空镀膜机（23寸射频源SGC-S1550i型）的核心配置与技术细节综合说明：

‌一、核心配置与性能参数‌

‌真空系统‌

‌真空室‌：尺寸兼容Φ1550mm规格（不锈钢材质），工件架辐照面积≥Φ1150mm，极限真空& >，搭配机械泵+罗茨泵+扩散泵+低温冷凝器（POLYCOLD），15分钟内可抽至工作真空（大气压→5×10⁻³Pa）。

‌污染控制‌：特殊设计降低微尘污染，支持连续20批次IR截止滤光片镀膜无需清扫校正. 

‌镀膜组件‌

‌射频离子源‌：23寸高功率RF离子源，离子束聚焦精准，增强薄膜致密性与附着力，适用于树脂基片至多层滤波片的高品质镀膜。

‌蒸发源‌：配置电子枪（PLASMATECH 10KW型号）或热阻蒸装置，支持AR/AF/HR膜及100层以上介质膜制备。

‌监控系统‌

‌膜厚控制‌：光纤式光学膜厚仪+80点恒温监控玻璃，结合晶控系统（如美国英福康SQM-160），实现纳米级精度膜厚重复性。

‌自动化‌：全自动一键操作，参数记忆存储功能，降低人工干预15。

‌二、技术优势‌

‌稳定性‌：抗污染技术与真空系统协同，保障批量连续生产（如20批次IR滤光片零维护）。

‌精度控制‌：光纤监控仪温控设计，确保膜层特性高度稳定，均匀性误差≤±1%。

‌兼容性‌：适配玻璃、树脂、金属基材，覆盖AR膜、AF膜、DBR膜（LED专用）等复杂膜系。

‌三、应用场景‌

‌光学器件‌：IR截止滤光片、分色滤光片、高反射膜（HR膜）。

‌显示与电子‌：手机盖板AF膜、车载镜头镀膜、触摸屏防污膜（AS膜）。

‌特殊领域‌：LED多层光学DBR膜、光纤介质膜。

‌四、设备状态与服务‌

‌2015-2017年产在产设备转让

‌服务支持‌：包安装调试、工艺培训（如AF膜量产技术）及3个月保修。

‌五、能耗与物理参数‌

‌电源需求‌：三相200V/50-60Hz，功率80-120KVA212。

‌冷却系统‌：水流量≥220L/min，空气压力 >。

‌设备尺寸‌：整机重约11-12吨，需净化车间穿墙安装

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